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            真空系統

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            直線式勞挨透鏡鍍制機

            產品特點

            • 直線式勞埃透鏡鍍制機,是為高能同步輻射光源(HEPS)硏發的高端儀器裝備,用于制備硬X射線納米聚焦的勞埃透鏡膜層。最主要的特點是膜層層數多(數千層甚至更多)且膜層位置和厚度精度高(總位置平均誤差小于±5nm ,每層的厚度誤差小于0.1nm)。為了保證楔形膜的要求精度,系統采用磁控濺射與基片變加速運動控制技術 相結合進行膜層制備,其優點是,能夠精確控制膜層厚度及或膜形狀,重復性好,薄膜與基片結合緊密,薄膜純度高、致密性好。

            應用領域

            • 技術指標
            • 尺寸
            • 產品特性
            • 配件
            • 下載
          1. 運動系統直線度
            ≤30μm/1000mm
            運動系統速率穩定性
            ≤0.1% /300mm
          2. 基板加熱最高溫度
            200℃
            靶位數
            ≥9個
          3. 靶與樣品間距離
            60~100mm手動可調
            沉積室極限真空度
            <8×〖10〗^(-6)Pa
          4. 檢測室腔室漏率
            <1×〖10〗^(-8)Pa?L/s
            檢測室極限真空度
            <8×〖10〗^(-6)Pa
          5. 進樣室基板加熱最高溫度
            500℃
            進樣室本底極限真空度
            <8×〖10〗^(-5)Pa
            文件名 類型 語言 日期 文件大小

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