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            科學儀器

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            全自動磁控離子濺射儀 GVC-2000

            產品特點

            • 液晶顯示屏簡便操作
            • 自動抽真空做樣
            • 自動放氣
            • 濺射電流范圍大
            • 濺射效率高
            • 顆粒度小
            • 樣品表面無溫升
            • 適用溫度敏感性樣品

            應用領域

            場發射電鏡、電極制備、溫度敏感樣品制備
            • 技術指標
            • 尺寸
            • 產品特性
            • 配件
            • 下載
          1. 工作方式
            全自動磁控
            濺射電流
            5-45mA
          2. 靶材
            金、鉑(標配、二選一)
            濺射電壓
            600V
          3. 真空泵
            油封式旋片泵1L/s(可選配渦旋干泵)
            真空度
            <1Pa
          4. 本儀器主要用于掃描電鏡樣品制備、電極材料研究等領域,液晶顯示屏簡便操作、自動抽真空做樣、自動放氣、濺射電流范圍大、濺射效率高、顆粒度小、樣品表面無溫升,適用溫度敏感性樣品等特點,可適用金、鉑、銀、鈦、鉻、鋁、銅、鉛等常用靶材。

            文件名 類型 語言 日期 文件大小

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